Grundlagen und Anwendungen elektrothermischer Verfahren: Folge 2: Plasmaerwärmung

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelTransferPeer-Review

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Titel in ÜbersetzungBasic principles and applications of electrothermal processes
OriginalspracheDeutsch
Seiten (von - bis)133-135
Seitenumfang3
FachzeitschriftElektrowärme international : EWI ; Zeitschrift für elektrothermische Prozesse
Jahrgang67
Ausgabenummer2
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2009

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Grundlagen und Anwendungen elektrothermischer Verfahren: Folge 2: Plasmaerwärmung. / Baake, Egbert.
in: Elektrowärme international : EWI ; Zeitschrift für elektrothermische Prozesse, Jahrgang 67, Nr. 2, 2009, S. 133-135.

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelTransferPeer-Review

Baake, E 2009, 'Grundlagen und Anwendungen elektrothermischer Verfahren: Folge 2: Plasmaerwärmung', Elektrowärme international : EWI ; Zeitschrift für elektrothermische Prozesse, Jg. 67, Nr. 2, S. 133-135.
Baake, E. (2009). Grundlagen und Anwendungen elektrothermischer Verfahren: Folge 2: Plasmaerwärmung. Elektrowärme international : EWI ; Zeitschrift für elektrothermische Prozesse, 67(2), 133-135.
Baake E. Grundlagen und Anwendungen elektrothermischer Verfahren: Folge 2: Plasmaerwärmung. Elektrowärme international : EWI ; Zeitschrift für elektrothermische Prozesse. 2009;67(2):133-135.
Baake, Egbert. / Grundlagen und Anwendungen elektrothermischer Verfahren : Folge 2: Plasmaerwärmung. in: Elektrowärme international : EWI ; Zeitschrift für elektrothermische Prozesse. 2009 ; Jahrgang 67, Nr. 2. S. 133-135.
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TY - JOUR

T1 - Grundlagen und Anwendungen elektrothermischer Verfahren

T2 - Folge 2: Plasmaerwärmung

AU - Baake, Egbert

PY - 2009

Y1 - 2009

UR - http://www.scopus.com/inward/record.url?scp=84865452715&partnerID=8YFLogxK

M3 - Artikel

AN - SCOPUS:84865452715

VL - 67

SP - 133

EP - 135

JO - Elektrowärme international : EWI ; Zeitschrift für elektrothermische Prozesse

JF - Elektrowärme international : EWI ; Zeitschrift für elektrothermische Prozesse

SN - 0340-3521

IS - 2

ER -

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