Details
| Originalsprache | undefiniert/unbekannt |
|---|---|
| Fachzeitschrift | Physica E-Low-Dimensional Systems & Nanostructures |
| Publikationsstatus | Veröffentlicht - 3 Feb. 2004 |
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in: Physica E-Low-Dimensional Systems & Nanostructures, 03.02.2004.
Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Peer-Review
}
TY - JOUR
T1 - Fabrication of double quantum dots by combining afm and e-beam lithography
AU - Rogge, MC
AU - Fuhner, C.
AU - Keyser, U.F.
AU - Bichler, M.
AU - Abstreiter, G.
AU - Wegscheider, W.
AU - Haug, RJ
N1 - Funding information: We thank D. Pfannkuche, F. Hohls and U. Zeitler for helpful discussions and BMBF for financial support.
PY - 2004/2/3
Y1 - 2004/2/3
UR - http://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=ORCID&SrcApp=OrcidOrg&DestLinkType=FullRecord&DestApp=WOS_CPL&KeyUT=WOS:000220873300070&KeyUID=WOS:000220873300070
U2 - 10.1016/j.physe.2003.11.054
DO - 10.1016/j.physe.2003.11.054
M3 - Article
JO - Physica E-Low-Dimensional Systems & Nanostructures
JF - Physica E-Low-Dimensional Systems & Nanostructures
ER -