Einfluss der Präparationsbedingungen auf die strukturellen und dielektrischen Eigenschaften von Gd2O3-Schichten gewachsen mit Molekularstrahlepitaxie auf Si(001)

Publikation: Qualifikations-/Studienabschlussarbeit › Dissertation

Autorschaft

  • Philipp Gribisch

Organisationseinheiten

Forschungs-netzwerk anzeigen

Details

OriginalspracheDeutsch
QualifikationDoctor rerum naturalium
Gradverleihende Hochschule
Betreut von
  • Andreas Fissel, Betreuer*in
Datum der Verleihung des Grades9 Dez. 2020
ErscheinungsortHannover
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2020

Zitieren

Einfluss der Präparationsbedingungen auf die strukturellen und dielektrischen Eigenschaften von Gd2O3-Schichten gewachsen mit Molekularstrahlepitaxie auf Si(001). / Gribisch, Philipp.
Hannover, 2020. 208 S.

Publikation: Qualifikations-/Studienabschlussarbeit › Dissertation

Download
@phdthesis{eccd9e2032324b8db990d7ba2d8b820d,
title = "Einfluss der Pr{\"a}parationsbedingungen auf die strukturellen und dielektrischen Eigenschaften von Gd2O3-Schichten gewachsen mit Molekularstrahlepitaxie auf Si(001)",
author = "Philipp Gribisch",
note = "Dissertation",
year = "2020",
doi = "10.15488/10326",
language = "Deutsch",
school = "Gottfried Wilhelm Leibniz Universit{\"a}t Hannover",

}

Download

TY - BOOK

T1 - Einfluss der Präparationsbedingungen auf die strukturellen und dielektrischen Eigenschaften von Gd2O3-Schichten gewachsen mit Molekularstrahlepitaxie auf Si(001)

AU - Gribisch, Philipp

N1 - Dissertation

PY - 2020

Y1 - 2020

U2 - 10.15488/10326

DO - 10.15488/10326

M3 - Dissertation

CY - Hannover

ER -