Publikationen
- 2007
- Veröffentlicht
Crystalline Rare-Earth Oxides as High-κ Materials for Future CMOS Technologies
Osten, H. J., Laha, A., Czemohorsky, M., Dargis, R., Bugiei, E. & Fissel, A., 2007, in: ECS Transactions. 11, 4, S. 287-297 11 S.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Konferenzaufsatz in Fachzeitschrift › Forschung › Peer-Review
- Veröffentlicht
Thermal stability of pt/epitaxial Gd2O3/Si stacks
Lipp, E., Eizenberg, M., Czernohorsky, M. & Osten, H. J., 2007, Materials Research Society Symposium Proceedings - Characterization of Oxide/Semiconductor Interfaces for CMOS Technologies. S. 64-69 6 S. (Materials Research Society Symposium Proceedings; Band 996).Publikation: Beitrag in Buch/Bericht/Sammelwerk/Konferenzband › Aufsatz in Konferenzband › Forschung › Peer-Review
- 2006
- Veröffentlicht
Interface Engineering During Epitaxial Growth of High-K Lanthanide Oxides on Silicon
Osten, H. J., Czernohorsky, M., Bugiel, E., Kuehne, D. & Fissel, A., 1 Dez. 2006, in: Materials Research Society Symposium Proceedings. 917, 1, S. 137-142 6 S.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Konferenzaufsatz in Fachzeitschrift › Forschung › Peer-Review
- Veröffentlicht
Dielectric functions, elasto-optical effects, and critical-point parameters of biaxially stressed Si1-yCy alloys on Si (0 0 1)
Zollner, S., Liu, J. P., Zaumseil, P., Osten, H. J. & Demkov, A. A., 28 Nov. 2006, in: Semiconductor Science and Technology. 22, 1, S. S13-S20 S04.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Peer-Review
- Veröffentlicht
Molecular Beam Epitaxy of Rare-Earth Oxides
Osten, H. J., Bugiel, E., Czernohorsky, M., Elassar, Z., Kirfel, O. & Fissel, A., 28 Okt. 2006, Rare Earth Oxide Thin Films: Growth, Characterization, and Applications. Fanciulli, M. & Scarel, G. (Hrsg.). S. 101-114 14 S. (Topics in Applied Physics; Band 106).Publikation: Beitrag in Buch/Bericht/Sammelwerk/Konferenzband › Beitrag in Buch/Sammelwerk › Forschung › Peer-Review
- Veröffentlicht
Formation of Si twinning-superlattice: First step towards Si polytype growth
Fissel, A., Bugiel, E., Wang, C. R. & Osten, H. J., 15 Okt. 2006, in: Materials Science and Engineering B: Solid-State Materials for Advanced Technology. 134, 2-3 SPEC. ISS., S. 138-141 4 S.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Peer-Review
- Veröffentlicht
Impact of Si substrate orientations on electrical properties of crystalline Gd2O3 thin films for high- K application
Laha, A., Osten, H. J. & Fissel, A., 5 Okt. 2006, in: Applied physics letters. 89, 14, 143514.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Peer-Review
- Veröffentlicht
Growth and characterization of crystalline gadolinium oxide on silicon carbide for high-K application
Fissel, A., Czemohorsky, M., Dargis, R. & Osten, H. J., Okt. 2006, in: Superlattices and microstructures. 40, 4-6, S. 551-556 6 S.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Peer-Review
- Veröffentlicht
0.86-nm CET Gate Stacks With Epitaxial Gd2O3 High-k Dielectrics and FUSI NiSi Metal Electrodes
Gottlob, H. D. B., Echtermeyer, T., Schmidt, M., Mollenhauer, T., Efavi, J. K., Wahlbrink, T., Lemme, M. C., Czernohorsky, M., Bugiel, E., Fissel, A., Osten, H. J. & Kurz, H., 25 Sept. 2006, in: IEEE electron device letters. 27, 10, S. 814-816 3 S.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Peer-Review
- Veröffentlicht
Novel Approach for Fabrication of Single-Crystalline Insulator/Si/Insulator Nanostructures
Fissel, A., Kuehne, D., Bugiel, E. & Osten, H. J., 1 Sept. 2006, in: Materials Research Society Symposium Proceedings. 928, 1, S. 7-12 6 S.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Peer-Review
- Veröffentlicht
Residual strain in Ge films grown by surfactant-mediated epitaxy on Si(1 1 1) and Si(0 0 1) substrates
Wietler, T. F., Bugiel, E. & Hofmann, K. R., Aug. 2006, in: Materials Science in Semiconductor Processing. 9, 4-5 SPEC. ISS., S. 659-663 5 S.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Peer-Review
- Veröffentlicht
Characterization of crystalline rare-earth oxide high-K dielectrics grown by molecular beam epitaxy on silicon carbide
Fissel, A., Czernohorsky, M. & Osten, H. J., 26 Juli 2006, in: Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures. 24, 4, S. 2115-2118 4 S.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Peer-Review
- Veröffentlicht
Fabrication of single-crystalline insulator/Si/insulator nanostructures
Fissel, A., Kühne, D., Bugiel, E. & Osten, H. J., 25 Juli 2006, in: Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures. 24, 4, S. 2041-2046 6 S.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Peer-Review
- Veröffentlicht
Surfactant-mediated epitaxy of high-quality low-doped relaxed germanium films on silicon (001)
Wietler, T. F., Bugiel, E. & Hofmann, K. R., 5 Juni 2006, in: THIN SOLID FILMS. 508, 1-2, S. 6-9 4 S.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Peer-Review
- Veröffentlicht
CMOS integration of epitaxial Gd2O3 high-k gate dielectrics
Gottlob, H. D. B., Echtermeyer, T., Mollenhauer, T., Efavi, J. K., Schmidt, M., Wahlbrink, T., Lemme, M. C., Kurz, H., Czernohorsky, M., Bugiel, E., Osten, H. J. & Fissel, A., Juni 2006, in: Solid-State Electronics. 50, 6, S. 979-985 7 S.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Peer-Review
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Formation of twinning-superlattice regions by artificial stacking of Si layers
Fissel, A., Bugiel, E., Wang, C. R. & Osten, H. J., 1 Mai 2006, in: Journal of crystal growth. 290, 2, S. 392-397 6 S.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Peer-Review
- Veröffentlicht
Crystalline ternary rare earth oxide with capacitance equivalent thickness below 1 nm for high-K application
Laha, A., Bugiel, E., Osten, H. J. & Fissel, A., 25 Apr. 2006, in: Applied physics letters. 88, 17, 172107.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Peer-Review
- Veröffentlicht
Cooperative solid-vapor-phase epitaxy: An approach for fabrication of single-crystalline insulator/Si/insulator nanostructures
Fissel, A., Kühne, D., Bugiel, E. & Osten, H. J., 10 Apr. 2006, in: Applied physics letters. 88, 15, 153105.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Peer-Review
- Veröffentlicht
Impact of oxygen supply during growth on the electrical properties of crystalline Gd2O3 thin films on Si(001)
Czernohorsky, M., Bugiel, E., Osten, H. J., Fissel, A. & Kirfel, O., 10 Apr. 2006, in: Applied physics letters. 88, 15, 152905.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Peer-Review
- Veröffentlicht
Interface formation during molecular beam epitaxial growth of neodymium oxide on silicon
Fissel, A., Elassar, Z., Kirfel, O., Bugiel, E., Czernohorsky, M. & Osten, H. J., 5 Apr. 2006, in: Journal of applied physics. 99, 7, 074105.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Peer-Review